中信证券发布研究报告称，我国在光刻机以及半导体量/检测设备自主可控需核心光学系统达到国际一流水平，目前我国头部光学厂商已具备一定工业级超精密光学加工能力，随着国内半导体行业加快速度进行发展、设备自主可控比例提升，半导体设备光学系统具有巨大的国产替代空间，该行建议着重关注潜在的半导体设备光学元件供应商。
超精密光学元件为光学元件市场的“掌上明珠”，主要使用在于半导体、生命科学等高科技行业，弗若斯特沙利文预计(转引自茂莱光学招股说明书)2026年全球工业级精密光学市场规模将达到268亿元，对应2022-2026年CAGR为14%。超精密光学元件制造考验国内厂商在制造设备、加工工艺等领域的综合能力，目前国内厂商较海外龙头仍有很大的差距。从竞争格局看，国内精密光学企业抓住了产业转移的机遇，在产品设计、制造、检测等关键环节逐步缩小了与国际厂商的差距，根据弗若斯特沙利文数据(转引自茂莱光学招股说明书)，2021年国内精密光学企业在半导体和生命科学领域市场占有率分别达到了6%和12%。
半导体制程迭代需开发更高集成密度工艺，实现难度持续增大，先进半导体制程已从平面结构发展至3D结构，晶体管面积不断缩小。随着半导体器件集成度提升，行业需要用更复杂的制造工艺，对于材料和设备均提出了更高的要求。根据Gartner数据，半导体设备拥有十大类设备，光刻机和量/检测设备为半导体制造重要设备。光刻机与半导体量/检测设备占半导体设备市场规模的占比分别是17%和12%。精密光学系统为光刻机以及量/检测设备重要组成，覆盖半导体制造全流程，对于制造工艺以及良率控制有重大影响，为半导体设备的核心零部件系统。
光刻机为芯片生产的核心设备，直接影响制程工艺节点。根据中国工程院(转引自前瞻产业研究院)，一台EUV光刻机包含了超过10万个零部件，最重要的包含照明系统、工作台系统、曝光系统等，全球供应商超过5000家。光学系统为光刻机重要组成，直接影响光刻机分辨率和良率，大约占光刻机成本的30%。根据ASML、蔡司公告，该行认为高端光刻机光学系统价值量高，该行预计2025年全球光刻机光学系统市场规模有望达到60亿美元，对应2022-2025年CAGR为25%。目前，蔡司为全球光刻机光学系统市场绝对龙头，该行测算蔡司市场占有率高达90%，而国内厂商虽具备了一定的光刻机光学系统制造能力，但与蔡司仍有较大差距。
应用光学检测技术的半导体量/检测设备使用场景较广，根据VLSI Research和QY Research数据，2020年全球应用光学检测技术设备市场占有率为75.2%。随着半导体制程已向亚纳米发展，半导体量/检测设备通过提升分辨率、提升算法和软件性能、以及提升设备吞吐量等方式来进行改进，相关设备对于光学系统要求达到超精密光学等级，价值量不断的提高。根据Gartner、SEMI以及中科飞测公告信息，该行预计2024年全球半导体量/检测设备光学系统市场规模有望达到13亿美元，而目前市场仍被Newport、蔡司、Zygo、Jenoptik等海外光学厂商主导。
先进制程半导体设备仍为“卡脖子”环节，其中光刻机以及高端半导体量/检测设备国产化率仍不足10%。
受到国际政治博弈加剧等坏因影响，我国亟需在先进制程光刻机、半导体量/检测设备寻求国产替代。该类设备设计较为复杂，零部件技术指标较高，产业链涉及较广，其中光学系统作为最重要的组成之一，分别占光刻机以及半导体量/检测设备成本的30%/10%，该行预计2025年光刻机以及半导体量/检测设备配套光学系统市场规模有望达到73亿美元。
风险因素：半导体行业需求没有到达预期;光刻机技术路线出现重大变化;国产光刻机光学系统发展没有到达预期;国产半导体量/检测设备光学系统发展没有到达预期;国产光刻机产业发展没有到达预期。